Подпишитесь на наши социальные сети для получения оперативных публикаций
Введение
Благодаря быстрому прогрессу в теории полупроводниковых лазеров, материалах, производственных процессах и технологиях упаковки, а также постоянному улучшению мощности, эффективности и срока службы, мощные полупроводниковые лазеры все чаще используются в качестве прямых или накачивающих источников света. Эти лазеры не только широко применяются в лазерной обработке, медицинском лечении и технологиях отображения, но также имеют решающее значение в космической оптической связи, атмосферном зондировании, лидарах и распознавании целей. Мощные полупроводниковые лазеры играют ключевую роль в развитии нескольких высокотехнологичных отраслей промышленности и представляют собой стратегический конкурентный момент среди развитых стран.
Многопиковый полупроводниковый стекированный лазер с быстрой осевой коллимацией
В качестве основных источников накачки для твердотельных и волоконных лазеров полупроводниковые лазеры демонстрируют сдвиг длины волны в сторону красного спектра при повышении рабочей температуры, обычно на 0,2-0,3 нм/°C. Этот дрейф может привести к несоответствию между линиями излучения ЛД и линиями поглощения твердой усиливающей среды, что снижает коэффициент поглощения и значительно снижает выходную эффективность лазера. Обычно для охлаждения лазеров используются сложные системы контроля температуры, что увеличивает размер системы и энергопотребление. Чтобы удовлетворить требования к миниатюризации в таких приложениях, как автономное вождение, лазерная локация и ЛИДАР, наша компания представила серию многопиковых, охлаждаемых кондуктивно стекированных решеток LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1. За счет расширения количества линий излучения ЛД этот продукт поддерживает стабильное поглощение твердой усиливающей средой в широком диапазоне температур, снижая нагрузку на системы контроля температуры и уменьшая размер лазера и энергопотребление, обеспечивая при этом высокую выходную энергию. Используя передовые системы тестирования кристаллов без покрытия, вакуумную коалесценцию, технологию интерфейсных материалов и сплавления, а также управление переходными тепловыми процессами, наша компания может добиться точного многопикового управления, высокой эффективности, передового управления тепловыми процессами и гарантировать долгосрочную надежность и срок службы наших массивов продукции.

Рисунок 1. Схема продукта LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1
Характеристики продукта
Управляемая многопиковая эмиссия В качестве источника накачки для твердотельных лазеров этот инновационный продукт был разработан для расширения стабильного диапазона рабочих температур и упрощения системы терморегулирования лазера на фоне тенденций к миниатюризации полупроводниковых лазеров. С нашей передовой системой тестирования кристаллов без покрытия мы можем точно выбирать длины волн и мощность кристаллов стержня, что позволяет контролировать диапазон длин волн продукта, интервал и несколько контролируемых пиков (≥2 пиков), что расширяет диапазон рабочих температур и стабилизирует поглощение накачки.

Рисунок 2 Спектрограмма продукта LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1
Сжатие по быстрой оси
Этот продукт использует микрооптические линзы для сжатия по быстрой оси, адаптируя угол расхождения по быстрой оси в соответствии с конкретными требованиями для повышения качества пучка. Наша система онлайн-коллимации по быстрой оси позволяет осуществлять мониторинг и регулировку в режиме реального времени во время процесса сжатия, гарантируя, что профиль пятна хорошо адаптируется к изменениям температуры окружающей среды с отклонением <12%.
Модульная конструкция
Этот продукт сочетает в себе точность и практичность в своей конструкции. Характеризуясь компактным, обтекаемым внешним видом, он обеспечивает высокую гибкость в практическом использовании. Его прочная, долговечная структура и высоконадежные компоненты обеспечивают долгосрочную стабильную работу. Модульная конструкция позволяет гибко настраивать под нужды клиентов, включая настройку длины волны, интервал излучения и компрессию, что делает продукт универсальным и надежным.
Технология терморегулирования
Для продукта LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1 мы используем материалы с высокой теплопроводностью, соответствующие КТР стержня, что обеспечивает однородность материала и превосходное рассеивание тепла. Методы конечных элементов используются для моделирования и расчета теплового поля устройства, эффективно объединяя переходные и стационарные тепловые симуляции для лучшего контроля температурных изменений.

Рисунок 3 Тепловое моделирование продукта LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1
Управление процессом Эта модель использует традиционную технологию сварки твердым припоем. Благодаря управлению процессом обеспечивается оптимальное рассеивание тепла в пределах установленного расстояния, что не только сохраняет функциональность продукта, но и обеспечивает его безопасность и долговечность.
Технические характеристики продукта
Продукт отличается контролируемыми многопиковыми длинами волн, компактным размером, малым весом, высокой эффективностью электрооптического преобразования, высокой надежностью и длительным сроком службы. Наш новейший многопиковый полупроводниковый стекированный массивный стержневой лазер, как многопиковый полупроводниковый лазер, гарантирует, что каждый пик длины волны четко виден. Его можно точно настроить в соответствии с конкретными потребностями клиента по требованиям к длине волны, расстоянию, количеству стержней и выходной мощности, демонстрируя его гибкие возможности конфигурации. Модульная конструкция адаптируется к широкому диапазону сред применения, а различные комбинации модулей могут удовлетворить различные потребности клиента.
Номер модели | LM-8xx-Q4000-F-G20-P0.73-1 | |
Технические характеристики | единица | ценить |
Режим работы | - | QCW |
Рабочая частота | Hz | 20 |
Ширина импульса | us | 200 |
Расстояние между барами | mm | 0.73 |
Пиковая мощность на бар | W | 200 |
Количество баров | - | 20 |
Центральная длина волны (при 25°C) | nm | А:798±2;Б:802±2;В:806±2;Г:810±2;Д:814±2; |
Угол расхождения по быстрой оси (FWHM) | ° | 2-5 (типично) |
Угол расхождения по медленной оси (FWHM) | ° | 8 (типично) |
Режим поляризации | - | TE |
Коэффициент температуры длины волны | нм/°С | ≤0,28 |
Рабочий ток | A | ≤220 |
Пороговый ток | A | ≤25 |
Рабочее напряжение/бар | V | ≤2 |
Эффективность наклона/бар | В/Д | ≥1.1 |
Эффективность преобразования | % | ≥55 |
Рабочая температура | °С | -45~70 |
Температура хранения | °С | -55~85 |
Продолжительность жизни (выстрелов) | - | ≥109 |
Типичные значения тестовых данных приведены ниже:

Время публикации: 10 мая 2024 г.